Свяжитесь с нами: +7 499 350-20-60 | info@conetech.ru

Спектроскопический эллипсометр SE200BM-M450

Spectroscopic Ellipsometer for 450mm Wafer Thin Film Thickness ApplicationВ 2008 году компания Angstrom Sun Technologies была приглашена присоединиться к разработкам касающихся работы с 450 мм полупроводниковыми пластинами, курируемых ISMI (Sematech). В мае 2010 года был установлен первый настольный спектроскопический эллипсометр SE200BM-M450 в Hitachi Kokusai Electric Inc., Япония. Второй 4500 мм эллипсометр был установлен в Sematech в Олбани в июне 2011 года.  После этого несколько таких систем было установлено в Applied Materials, Lam Research и др.

Большой стол для картирования и безопасное устройство подачи пластин были специально разработаны для эллипсометра модели SE200BM. Загрузка и выгрузка пластин осуществляется с помощью специальной лопатки. В режиме оператора управление происходит через простой интерфейс, получение результата возможно нажатием одной кнопки.

Особенности:

  • Работает под управлением ОС Windows
  • Усовершенствованная конструкция оптики для лучшей производительности системы
  • Безопасная работа с пластинами
  • Источник света высокой мощности диапазона глубокого УФ и видимого
  • Система детектирования на основе матрицы, чтобы обеспечить быстрое измерение
  • Измерение толщины пленки и показателя преломления вплоть до 12 слоев
  • Возможность использования для мониторинга толщины и показателя преломления в режиме реального времени
  • Система поставляется с полной библиотекой оптических констант
  • Передовое программное обеспечение TFProbe позволяет использовать таблицу nk, аппроксимацию эффективной среды или рассеяния для каждой отдельной пленки
  • Три режима управления: режим инженера, сервисный режим, режим пользователя без глубоких знаний
  • Режим инженера для задания рецептов и тестирования оптических моделей
  • Решение для быстрых и рутинных измерений
  • Настраиваемые параметры измерений для удобства и простоты оперирования
  • Полностью автоматическая калибровка и инициализация системы
  • Точная юстировка положения образца, не требуется внешняя оптика
  • Точная настройка высоты
  • Работа с 450 мм пластинами
  • Доступны опции оптики и принадлежностей для расширения системы
  • 2D и  3D графики и удобный интерфейс работы с данными

Конфигурация системы:

  • Детектор: детекторная матрица
  • Источник света: комбинированный глубокий УФ — видимый — ближний ИК высокой мощности
  • Изменение угла падения: предустановка на 70 градусов (настраивается вручную)
  • Стол: 450 мм, автоматическое картирование, с Rho-Theta конфигурацией
  • Программное обеспечение: TFProbe 3.3.x

Спецификация:

  • Диапазон длин волн: от 250 до 850 нм
  • Разрешение по длине волны: 1 нм
  • Размер пятна: от 1 мм до 5 мм, изменяемый
  • Возможность исключения края 1.5 мм
  • Интервал углов падения: от 0 до 90 градусов (предустановка 70 градусов)
  • Разрешение при изменении угла падения: 5 градусов
  • Размер образца: вплоть до 450 мм в диаметре
  • Толщина подложки: вплоть до 2 мм
  • Интервал измеряемых толщин: от 0 нм до 20 мкм
  • Время измерения: 1 с
  • Точность: лучше, чем  0.25%
  • Воспроизводимость: < 1 Å

Опции:

  • Фотометрические измерения для отражения
  • Микропятно для измерения малых областей
  • X-Y столик для картирования
  • Расширение интервала длин волн в сторону глубокого УФ (190 нм) или ИК (1700 нм)
  • Может дополняться микроспектрофотометром для работы с образцами с рисунком

Применение:

  • Диэлектрики (оксиды, нитриды…)
  • Фоторезист
  • Металлы, TiN, W, TaN
  • Полупроводники: aSi, Poly, SiGe…
  • Различные углеродные пленки
Translation